的過氧化氫（H2O2）清洗液。

10、啟動清洗泵，分別調節淡水、濃水進水閥，以規定的流量循環清洗（消毒步驟）。

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續注入清水（RO產水），啟動清洗泵連續清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產水、濃水出水側的水質，直至與進水側電導率相近。

14、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉（NaOH） 2%鹽（NaCl）的清洗液。

15、啟動清洗泵，分別調節濃水、進水閥，以規定的流量循環清洗（堿洗步驟）。

16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

17、向清洗水箱連續注入清水（RO產水），啟動清洗泵連續清洗（沖洗步驟）。

18、分別檢測淡水、濃水出水側的水質，直至與進水側電導率相近。

19、調節各個閥門，恢復原始各設計流量數據。

20、停機，恢復EDI各個管路與其他系統的連接。

21、開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，進行再生（再生步驟），直至電阻率達到出水要求為止。

22、轉入正常運行，并作好初次運行的數據記錄。

八、極嚴重的微生物污堵和結垢

1、記錄清洗前所有數據。

2、分離EDI設備與其他設備的連接管路

3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進水管路進入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進出水閥門。

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

5、啟動清洗泵，分別調節濃水、進水閥，以規定的流量循環清洗（酸洗步驟）。

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。

7、向清洗水箱連續注入清水（RO產水），啟動清洗泵連續清洗（沖洗步驟）。

8、分別檢測淡水、濃水出水側的水質，直至與進水側電導率相近。

9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽（NaCl）清洗液。

10、啟動清洗泵，調節淡水、濃水進水閥，以規定的流量循環清洗（鹽洗步驟）。

11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離產水、濃水排水閥至地溝。

12、向清洗水箱連續注入清水（RO產水），啟動清洗泵連續清洗（沖洗步驟）。

13、分別檢測產水、濃水出水側的水質，直至與進水側電導率相近。

14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH) 0.2%的過氧化氫（