電子行業反滲透水處理設備工藝      

    電子行業在元件生產時會需要大量的清洗用水，清洗用水的水質必須要達到一定的電阻率才能保證清洗干凈，不會留下殘留物質。反滲透水處理設備的出水水質可以達到電子行業的用水標準。 電子元器件生產過程中需要大量高品質的純水、超純水,例如液晶顯示器，線路板、半導體，集成電路芯片，顯像管等用的純水，對水的純度要求較高，需要采用反滲透水處理設備來制取。

反滲透水處理設備在電子行業中的作用 ：   

    隨著電子工業的發展對高純水提出了越來越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC(總有機碳)為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個/毫升;而制作16M位DRAM時，則要求TOC<5ppb、金屬離子<0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數為0.6個/升。   可以說在電子級超純水制備系統中匯集了當前水處理技術最先進的工藝和設備,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等,其中反滲透裝置是整個純水、超純水制備系統工程中一關鍵的設備.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無機物質、99%以上的相對分子質量大于300的有機物、99%以上的包括細菌在內的各種微粒和95%以上的二氯化硅. 反滲透工藝在純水、超純水制備系統工程中的應用,不但能提高了產水品質,降低生產成本,而且防止環境污染,有力地推進了電子工業的進步,同時也促進了純水、超純水制造技術的發展。 

      反滲透水處理設備已被廣泛應用在電子工業中，由于其穩定的出水水質，簡單的操作，方便快捷，備受電子行業的寵愛。